Linearni vodič u području prednosti prijave za obradu poluvodiča
Linearni vodič u polju poluvodičke vaferske obrade Primjena značajnih prednosti, posebno odražena u sljedećim aspektima:
Pozicioniranje visoke preciznosti: Kao odgovor na potražnju za visokom preciznošću u procesu fotolitografije, usvojen je keramički linearni vodič, s grubošću RA<0.05μm after special polishing treatment, and with advanced drive and feedback system, sub-micrometer accurate positioning can be realized. This ensures the precise alignment of the mask plate and wafer in the photolithography process, guaranteeing the accuracy of the chip's critical dimensions (CD), such as a 12-inch wafer fab after the application of the key dimensions of the chip manufacturing deviation reduced by 40%, which greatly improves the precision and yield of chip manufacturing.
Visoka čistoća: Okoliš poluvodiča zahtijeva vrlo visok stupanj čistoće, sam keramički linearni vodič nije lako adsorbirati čestice i može se stabilno pokrenuti u vakuumskom okruženju, učinkovito smanjujući nečistoće koje je vodič o zagađenju odvajanja, kako bi se izbjegli čistoća koja je prouzrokovala Chip, Chip, Chip, Chip, prouzrokovan.
Visoka stabilnost i snažna reakcija: U jetkanju i drugim procesima, obrada vafelja, česta je promjena starta i smjera, optimizirani sustav cirkulacije kuglice nakon linearnog vodiča, može učiniti da klizač ubrza do 15 g, istodobno, glatkoća kontrole pogreške pokreta u ± 0 {{3} 002} u uvjetima da osigura da se osigura uvjeti. Zaštita, poboljšati učinkovitost proizvodnje . Sustav je osmišljen tako da osigura kontinuitet i stabilnost za obradu vafera i poboljšanje učinkovitosti proizvodnje.
